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授業情報/Class Information

科目一覧へ戻る 2022/12/02 現在

基本情報/Basic Information

開講科目名
/Course
薄膜電子工学特論/Thin film electronics
時間割コード
/Course Code
S221000042
ナンバリングコード
/Numbering Code
開講所属
/Course Offered by
理工学研究科/
曜日コマ
/Day, Period
金 4
開講区分
/Semester offered
前期/first semester
単位数
/Credits
2.0
学年
/Year
1,2
主担当教員
/Main Instructor
中澤 日出樹/NAKAZAWA HIDEKI
科目区分
/Course Group
大学院(博士前期課程) 専門科目
教室
/Classroom
必修・選択
/Required/Elective
選択
授業形式
/Class Format
講義科目
メディア授業
/Media lecture

担当教員情報/Instructor Information

教員名
/Instructor
教員所属名
/Faculty/Department
中澤 日出樹/NAKAZAWA HIDEKI 理工学研究科/
難易度(レベル)
/Level
レベル5
対応するDP
/DP
DP1・DP2・DP3
授業としての具体的到達目標
/Concrete arrival target as the class
○薄膜電子工学は、電子・光デバイスなど、電子情報産業の広範囲に及んでおり、現代の最先端を担っています。
○目的に応じて細分化された薄膜技術に共通する基本技術を系統的に理解できることが目標となります。
○薄膜電子工学は半導体デバイスをはじめとする各種デバイスの高性能化や新しいデバイスの開発に大きく貢献していることを認識できるように、電子情報デバイスのための応用技術について学びます。
授業の概要
/Summary of the class
薄膜電子工学の基本技術および応用技術の全体像の把握と要点を学びます。また、薄膜電子工学にとって薄膜評価技術は薄膜作製技術と共に不可欠な技術であることを学びます。電子・光デバイス用薄膜材料を開発するときに重要となる薄膜技術の全体像と要点を習得することができます。
授業の内容予定
/Contents plan of the class
第1回:薄膜成長技術の概要1(物理気相成長法)
第2回:薄膜成長技術の概要2(化学気相成長法)
第3回:薄膜作製の基本技術1(真空蒸着とスパッタリング技術)
第4回:薄膜作製の基本技術2(イオンビーム技術とプラズマ技術)
第5回:薄膜作製の基本技術3(反応性成膜技術と組成制御技術)
第6回:薄膜作製の基本技術4(ヘテロエピタキシ技術と選択成長技術)
第7回:薄膜作製の先端技術1(非整合ヘテロエピタキシ)
第8回:薄膜作製の先端技術2(単原子層エピタキシ)
第9回:薄膜作製の先端技術3(自己組織化構造とナノ構造制御)
第10回:材料別薄膜成長技術1(電子デバイス材料)
第11回:材料別薄膜成長技術2(光デバイス材料)
第12回:材料別薄膜成長技術3(ワイドギャップ半導体材料)
第13回:薄膜の評価技術1(膜厚、構造評価)
第14回:薄膜の評価技術2(組成評価)
第15回:薄膜の評価技術3(物性評価)
成績評価方法及び採点基準
/A scholastic evaluation method and marking standard
レポート(50%)と平常点(50%)で評価します。
予習及び復習等の内容
/Contents such as preparations for lessons and the review
輪講の担当部分の予習をしてきてください。
担当部分以外を復習してください。
教材・教科書
/The teaching materials, textbook
教科書:適宜指定します。
参考文献
/bibliography
参考書:図解・薄膜技術 日本表面科学会編 培風館
Semiconductor Devices -Physics and Technology-, S.M. Sze and M.K. Lee, JOHN WILEY & SONS, INC.
その他は適宜指定します。
留意点・予備知識
/Point to keep in mind, back ground
物理・化学に関する予備知識を必要とします。
授業内容に関する質問・疑義等
/Question, doubt about class contents
月曜日16:30~17:30理工学部2号館701号室
Eメールアドレス・HPアドレス
/E-mail address, HP address
Eメールアドレス:hnaka@hirosaki-u.ac.jp
学問分野1(主学問分野)
/Discipline 1
C21:電気電子工学およびその関連分野
学問分野2(副学問分野)
/Discipline 2
D30:応用物理工学およびその関連分野
学問分野3(副学問分野)
/Discipline 3
D29:応用物理物性およびその関連分野
地域志向科目
/Local intention subject
なし
授業形態・授業方法
/Class form, class method
専門書による輪講、講義形式
科目ナンバー
/The subject number
メディア授業による著作物利用の有無について
/Whether or not copyrighted works are used in media classes
有/Yes
その他
/Others
特になし
No. 回(日時)
/Time (date and time)
主題と位置付け(担当)
/Subjects and instructor's position
学習方法と内容
/Methods and contents
備考
/Notes
該当するデータはありません

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